Number of found documents: 778
Published from to

Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes
Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Řiháček, Tomáš; Kolařík, Vladimír; Chlumská, Jana; Urbánek, Michal
2017 - English
Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The principle of silicon nitride membranes preparation is based on the wet anisotropic etching of the bottom side of the silicon wafer with crystallographic orientation (100). While the basic procedure for the preparation of such membranes is well known, the nano patterning of thin membranes presents quite important challenges. This is partially due to the mechanical stress which is typically presented within such membranes. The resolution requirements of the\nmembrane patterning have gradually increased. Advanced lithographic techniques and etching procedures had to be developed. This paper summarizes theoretical aspects, technological issues and achieved results. The application potential of silicon nitride membranes as a base for multifunctional micro system (MMS) is also\ndiscussed. Keywords: e-beam writer; silicon nitride membranes; nano patterning; anisotropic etching Available at various institutes of the ASCR
Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes

Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The ...

Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Řiháček, Tomáš; Kolařík, Vladimír; Chlumská, Jana; Urbánek, Michal
Ústav přístrojové techniky, 2017

Parameter Optimization of Multi-Level Diffraction Gratings
Matějka, Milan; Kolařík, Vladimír; Horáček, Miroslav; Král, Stanislav
2017 - English
Originally, the e-beam lithography (EBL) is a technique for creating high-resolution black and white masks for the optical lithography. Multi-level relief structures can be also prepared using EBL patterning. Their preparation is based on the image patterning with a gradient of exposure doses. Large-area multi-level structures can be effectively prepared using the electron beam pattern generator with a variable shaped beam. We present several writing strategies. Basically, the main writing strategy uses one stamp (i.e. one elementary exposure of the shaped electron beam) per one elementary area with the same exposure dose. This simple approach is fast and flexible, however it does not guarantee optimal results. The main problem is an imperfection of the stamps (size, shape, and homogeneity). Advanced algorithms are based on multiple\nexposure of the same elementary area, the total local exposure dose is a sum of several different elementary exposures (stamps). Using these algorithms, a smoother surface of the structure can be achieved. On the other hand, the writing speed is considerably decreased. Tradeoff between the achieved parameters and the writing speed is discussed for selected set of writing strategy algorithms. Keywords: e-beam pattern generator; variable shaped beam; grayscale lithography; multi-level grating Available at various institutes of the ASCR
Parameter Optimization of Multi-Level Diffraction Gratings

Originally, the e-beam lithography (EBL) is a technique for creating high-resolution black and white masks for the optical lithography. Multi-level relief structures can be also prepared using EBL ...

Matějka, Milan; Kolařík, Vladimír; Horáček, Miroslav; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

Vliv aktuní dávky a chronického podání olanzapinu na funkční změny mozku u potkana
Dražanová, Eva; Rudá-Kučerová, J.; Krátká, Lucie; Horská, K.; Kotolová, H.; Štark, T.; Babinská, Z.; Micale, V.; Starčuk jr., Zenon
2017 - Czech
Olanzapin patří do skupiny atypických antipsychotik a běžně se používá při terapii schizofrenie. Zaměřili jsme se na změny perfuze mozkové tkáně u zdravých a MAM upravených zvířat. Detekovali jsme významně nižší prokrvení mozkové kůry při akutních a chronických olanzapinem léčených zvířat. Olanzapine belongs to the first choice drug in treatment of schizophrenia. We focused on blood perfusion changes inducted by acute and chronic application of olanzapine in healthy animals and MAM altered animals. We detectet significant lower perfusion of cerebral cortex in acute and chronic olanzapine treated animals. We susspect that it could be due to altered neurotransmiter regulation caused by olanzapine. Keywords: olanzapine; ASL; MAM Available at various institutes of the ASCR
Vliv aktuní dávky a chronického podání olanzapinu na funkční změny mozku u potkana

Olanzapin patří do skupiny atypických antipsychotik a běžně se používá při terapii schizofrenie. Zaměřili jsme se na změny perfuze mozkové tkáně u zdravých a MAM upravených zvířat. Detekovali jsme ...

Dražanová, Eva; Rudá-Kučerová, J.; Krátká, Lucie; Horská, K.; Kotolová, H.; Štark, T.; Babinská, Z.; Micale, V.; Starčuk jr., Zenon
Ústav přístrojové techniky, 2017

Nežádoucí metabolické účinky aripiprazolu v poly I:C modelu schizofrenie u potkana
Horská, K.; Rudá-Kučerová, J.; Dražanová, Eva; Pistovčáková, J.; Karpíšek, M.; Kotolová, H.; Demlová, R.; Kašpárek, T.
2017 - English
The aim of this study was to evaluate metabolic phenotype of poly I:C rat model and asses metabolic effects of chronic aripiprazole treatment with regard to complex neuroendocrine regulations of energy homeostasis. Altered lipid profile in poly I:C model was observed. Leptin and GLP-1 serum levels were significantly reduced, while ghrelin level was elevated. Our data indicate that dysregulation of adipose tissue endocrine function and gastrointestinal hormones is implicated in metabolic adverse effects of antipsychotics. Keywords: metabolic syndrome; aripiprazole; rat; poly I:C animal model Available at various institutes of the ASCR
Nežádoucí metabolické účinky aripiprazolu v poly I:C modelu schizofrenie u potkana

The aim of this study was to evaluate metabolic phenotype of poly I:C rat model and asses metabolic effects of chronic aripiprazole treatment with regard to complex neuroendocrine regulations of ...

Horská, K.; Rudá-Kučerová, J.; Dražanová, Eva; Pistovčáková, J.; Karpíšek, M.; Kotolová, H.; Demlová, R.; Kašpárek, T.
Ústav přístrojové techniky, 2017

Phyllotactic Model Linking Nano and Macro World
Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Krátký, Stanislav; Urbánek, Michal; Bok, Jan; Kolařík, Vladimír
2017 - English
Recently, the arrangement of diffraction primitives according to a phyllotactic model was presented. This arrangement was used to benchmarking purposes of the e-beam writer nano patterning. The phyllotactic arrangement has several interesting properties. One of them is related with the coherence between the nanoor microscopic domain of individual optical primitives and the properties of visually perceived images crated by these structures in the macro domain. This paper presents theoretical analysis of the phyllotactic arrangement in the referred context. Different approaches enabling the creation of diffractive optically variable images are proposed. The practical part of the presented work deals with the nano patterning of such structures using two different types of the e-beam pattern generators. One of them is a system with a variable shaped beam of electrons, while the other one is a system with a Gaussian-shaped beam. E-beam writing strategies and the use of inherent spiral patterns for exposure ordering and partitioning are also discussed. Keywords: nano patterning; spiral grating structure; phyllotactic pattern; e-beam writer Available at various institutes of the ASCR
Phyllotactic Model Linking Nano and Macro World

Recently, the arrangement of diffraction primitives according to a phyllotactic model was presented. This arrangement was used to benchmarking purposes of the e-beam writer nano patterning. The ...

Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Krátký, Stanislav; Urbánek, Michal; Bok, Jan; Kolařík, Vladimír
Ústav přístrojové techniky, 2017

Structural Colors of Self-Similar Nano Patterns
Meluzín, Petr; Horáček, Miroslav; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
2017 - English
E-beam lithography is a flexible technology for various diffraction gratings origination. The e-beam patterning typically allows for the creation of optical diffraction gratings in the first diffraction order. However, the very high resolution enables also the patterning of structures providing the zero-order diffraction. Recently, we presented a work on the structural colors of metallic layers covering both regular-line structures and CGH (computer generated hologram) structures. This work presents a study dealing with zero-order diffraction structures with self-similar properties. The practical part of the work is focused on two aspects: design parameters and technological issues. Variations in design parameters include the tone of the structure (positive or negative),\nthe density of filling, the filling factor, and the depth of the structures. The achieved gamut of colors may by primarily extended by the proper selection of metal deposition technology and its parameters, and further by the proper selection of the metal and the thickness of its layer; these are the technological issues. Keywords: e-beam writer; nano patterning; self similarity; diffraction grating Available at various institutes of the ASCR
Structural Colors of Self-Similar Nano Patterns

E-beam lithography is a flexible technology for various diffraction gratings origination. The e-beam patterning typically allows for the creation of optical diffraction gratings in the first ...

Meluzín, Petr; Horáček, Miroslav; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
Ústav přístrojové techniky, 2017

Blaze Gratings with a Ribbed Back Slope
Krátký, Stanislav; Meluzín, Petr; Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Král, Stanislav
2017 - English
Binary relief phase-modulated gratings provide symmetrical diffraction of the incoming light beam. Asymmetrical gratings, e.g. asymmetrical triangular blazed gratings, are characteristic by an asymmetrical diffraction behavior, where one of the first diffraction orders is more important than the other one. Electron beam lithography is a suitable and flexible tool for patterning of such kind of gratings. High quality results can be readily obtained when the period of the grating is relatively large and the relief depth is relatively low, this is the case of gratings with a small blaze angle. As the blaze angle increases, the quality of result suffers from several patterning-related issues. One of the problems is a reflection of the incoming light beam from the back slope (anti-blaze facet) of the blaze grating. We propose a novel configuration, with a ribbed modulation of the back slope. This modulation is perpendicular to the direction of the grating grooves. This paper presents an analysis of the proposed blazed grating configuration. E-beam pattern generators were used to prepare a few\nsamples of blaze gratings with a ribbed back slope. One part of the experiment was performed with a Gaussianshaped beam and another one with the variable-shaped beam. Results of the experiment are presented.\nFinally, we discuss the optical performance of two blaze gratings with similar parameters, one of them is with the flat back slope and another one is with the ribbed back slope. Keywords: nano patterning; blazed diffraction grating; Gaussian-type beam; variable-shaped beam; electron beam writer Available at various institutes of the ASCR
Blaze Gratings with a Ribbed Back Slope

Binary relief phase-modulated gratings provide symmetrical diffraction of the incoming light beam. Asymmetrical gratings, e.g. asymmetrical triangular blazed gratings, are characteristic by an ...

Krátký, Stanislav; Meluzín, Petr; Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

Automatický systém pro kalibraci koncových měrek optimalizovaný pro legální délkovou metrologii
Buchta, Zdeněk; Šarbort, Martin; Čížek, Martin; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Pikálek, Tomáš; Dvořáčková, Š.; Dvořáček, F.; Kůr, J.; Konečný, P.; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
2016 - Czech
Článek prezentuje bezkontaktní systém pro kalibraci koncových měrek, kombinující laserovou interferometrii a interferometrii nízké koherence. Absolutní hodnota koncové měrky je pak měřena bezkontaktně a jednokrokově, bez nutnosti jakékoli změny v optické sestavě v průběhu měření. Optická sestava je kombinována s podavačem koncových měrek o kapacitě 126 kusů, což umožňuje automatizaci celého měření.\nČlánek prezentuje optimalizační kroky pro přizpůsobení navrženého systému požadavkům sekundární délkové metrologie. Jsou prezentovány výsledky měření, srovnávající nový systém s referenčním systémem TESA-UPC, instalovaným v laboratořích Českého metrologického institutu. This paper presents a contactless system for automatic and contactless gauge blocks calibration based on combination of laser interferometry and low-coherence interferometry. In the presented system, the contactless measurement of the absolute gauge block length is done as a single-step operation without any change in optical setup during the measurement. The optical setup is combined with compact gauge block changer with capacity 126 gauge blocks, which makes the resulting system fully automatic. \nThe paper also presents in detail a set of optimization steps which have been done in order to transform the original experimental setup into the automatic system which meets legal length metrology requirements. To prove the measurement traceability, we conducted a set of gauge block length measurement comparing data from the optimized system and the established reference system and TESA–UPC operated in Czech Metrology Institute laboratory. Keywords: laser interferometry; low-coherence interferometry; gauge block; metrology Available at various institutes of the ASCR
Automatický systém pro kalibraci koncových měrek optimalizovaný pro legální délkovou metrologii

Článek prezentuje bezkontaktní systém pro kalibraci koncových měrek, kombinující laserovou interferometrii a interferometrii nízké koherence. Absolutní hodnota koncové měrky je pak měřena bezkontaktně ...

Buchta, Zdeněk; Šarbort, Martin; Čížek, Martin; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Pikálek, Tomáš; Dvořáčková, Š.; Dvořáček, F.; Kůr, J.; Konečný, P.; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
Ústav přístrojové techniky, 2016

Fázově koherentní přenos stabilní optické frekvence pro senzorické sítě
Čížek, Martin; Pravdová, Lenka; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Hrabina, Jan; Mikel, Břetislav; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
2016 - Czech
Využití optických vláken pro fázově koherentní přenosy vysoce stabilních optických frekvencí na velké vzdálenosti je testováno světovými metrologickými laboratořemi již řadu let. Současný rozmach moderních optovláknových senzorů v průmyslových aplikacích vytváří poptávku po transferu technologie fázově koherentních přenosů z laboratoří do průmyslové praxe. Příkladem může být dálková kalibrace tenzometrů pracujících na principu Braggových vláknových mřížek. V našem příspěvku prezentujeme 306 km dlouhou obousměrnou experimentální optickou trasu pro fázově koherentní přenosy z pracoviště oddělení Koherenční optiky na ÚPT AVČR v Brně do laboratoře sdružení CESNET v Praze. Linka využívá telekomunikační vlákno s vyhrazeným DWDM oknem 1540-1546 nm. V tomto okně probíhá stabilizovaný fázově koherentní přenos laserového normálu pracujícího na vlnové délce 1540,5 nm a obousměrný přenos časových značek 1PPS z časových normálů na obou koncích trasy. V příspěvku je diskutováno dlouhodobé měření fluktuací transportního zpoždění a relativní stability linky. Using long-haul optical fiber links for phase coherent transfers of stable optical frequencies has been developed by metrological laboratories for at least a decade. Present boom of optical fiber sensors puts a demand on transferring this technology from laboratories to industrial practice. A remote calibration of fiber Bragg grating tensometers can be an example. In our contribution we present a 306 km long fiber link between laboratories of ISI in Brno and CESNET in Prague. The line uses a telecom fiber with a dedicated DWDM window at 1540-1546 nm. The setup implements a phase coherent transfer of a laser standard working with 1540.5nm wavelength and a bi-directional transfer of 1PPS timestamps from radiofrequency standards at the both ends of the line. A long-term measurement of transport delay fluctuations and relative stability of the line are discussed. Keywords: metrology; photonic networks; time and frequency standards; transport delay stability measurement Available at various institutes of the ASCR
Fázově koherentní přenos stabilní optické frekvence pro senzorické sítě

Využití optických vláken pro fázově koherentní přenosy vysoce stabilních optických frekvencí na velké vzdálenosti je testováno světovými metrologickými laboratořemi již řadu let. Současný rozmach ...

Čížek, Martin; Pravdová, Lenka; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Hrabina, Jan; Mikel, Břetislav; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
Ústav přístrojové techniky, 2016

Reference optických kmitočtů
Hrabina, Jan
2016 - Czech
Reference optických kmitočtů založené na absorpčních kyvetách plněných absorpčními plyny představují účinný a nepostradatelný nástroj k realizaci a frekvenční stabilizaci laserových standardů. Jedním z nejčastěji používaných absorpčních médií je molekulární jód 127I2 .\nHlavním problémem použití tohoto média je jeho extrémní citlivost na přítomnost příměsí. Práce přináší přehled a srovnání možných měřicích metod pro kontrolu čistoty absorpčních kyvet v jak klasickém "bulk" tak i optovláknovém provedení.\n\n Optical frequency references based on absorption cells represent a traditional and essential tool for frequency locking of precise laser standards. One of the most often used absorption media is a molecular iodine 127I2, which offers a rich atlas of strong and narrow absorption lines across mostly whole visible part of optical spectrum. The main disadvatage of this media can be seen in its high corrosivity and sensitivity to presence of foreign substances. This contribution is oriented to comparison of possible measurement methods for bulk- and also optical fiber- based iodine absorption cells quality and chemical purity testing.\n\n Keywords: frequency standard; absorption cells; frequency stability Available at various institutes of the ASCR
Reference optických kmitočtů

Reference optických kmitočtů založené na absorpčních kyvetách plněných absorpčními plyny představují účinný a nepostradatelný nástroj k realizaci a frekvenční stabilizaci laserových standardů. Jedním ...

Hrabina, Jan
Ústav přístrojové techniky, 2016

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases