Number of found documents: 1107
Published from to

SMV-2019-08: Přenos tepla zářením v mnohavrstvé izolaci z kaptonových fólií
Frolec, Jiří
2019 - Czech
Výzkum byl zaměřen na stanovení tepelně-radiačních vlastností kaptonových fólií se speciální vrstvou na jedné její straně. Tyto folie se používají v mnohavrstvých izolacích (MLI), například v kosmonautice k zajištění tepelného komfortu družic. Experimenty byly zaměřeny na jednotlivé hodnoty emisivit tepelného záření pro obě strany fólie. Testování probíhalo ve vakuu v unikátní aparatuře chlazené kapalným héliem při teplotách vzorku mezi 20 K a 300 K. The aim of the study was emission of thermal radiation emitted by a foil made of material known as black kapton coated with a special layer. Such foils are often part of Multi-Layer Insulations (MLI) used in order to minimise the impact of the external environment on the spacecraft. The thermal radiative properties of both sides of the foil sample were tested under high vacuum using dedicated apparatus cooled by liquid helium. Sample temperatures ranged from 20 K up to 280 K. Keywords: emissivity; thermal radiation; MLI Available at various institutes of the ASCR
SMV-2019-08: Přenos tepla zářením v mnohavrstvé izolaci z kaptonových fólií

Výzkum byl zaměřen na stanovení tepelně-radiačních vlastností kaptonových fólií se speciální vrstvou na jedné její straně. Tyto folie se používají v mnohavrstvých izolacích (MLI), například v ...

Frolec, Jiří
Ústav přístrojové techniky, 2019

SMV-2019-03: Tenké membrány
Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2019 - Czech
Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých membrán – mokré leptání, reaktivní iontové leptání, plasmatické leptání a nízkofrekvenční plasmatické leptání. Zároveň byla vyvinuta technika nepřímého měření takto tenkých membrán. The development of technology for preparation of very thin silicon nitride membrane for use in low energy electron spectroscopy. Several techniques for preparation of thin membranes were tested during the development – wet etching, reactive ion etching, plasma etching, low-frequency plasma etching. Comparative method for the measurement of such thin membranes was developer also. Keywords: e-beam lithography; wet etching; plasma etching; reactive ion etching Available at various institutes of the ASCR
SMV-2019-03: Tenké membrány

Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých ...

Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2019

SMV-2019-07: Emise tepelného záření niobového vzorku za velmi nízkých teplot
Frolec, Jiří
2019 - Czech
Předmětem výzkumu bylo ověření vyzařování tepla povrchem niobového disku. Po přípravě vzorku byly v nízkoteplotní měřící aparatuře testovány tepelně radiační vlastnosti dodaného materiálu. Experimenty probíhaly ve vakuu a s pomocí chlazení kapalným héliem se teplota vzorku ustalovala na teplotách v rozsahu 7 K až 280 K. V důsledku velmi nízkého signálu za nejnižších teplot, bylo za tímto účelem nutné postupně použít různé teplotní kontroléry a vyvinout zcela nový systém sběru a zpracování dat. The aim of the study was verification of the radiative heat emission from a niobium disc. The sample was prepared and installed in a special cryogenic apparatus. The thermal radiative properties of the sample were tested in the apparatus placed in a liquid helium bath. The sample was kept under high vacuum and at temperatures ranging from 7 K to 280 K. Two different temperature controllers were used and a new system for data collection and processing were developed due to very low signal of the sample at lowest temperatures. Keywords: emissivity; thermal radiation; cryogenics; metalls Available at various institutes of the ASCR
SMV-2019-07: Emise tepelného záření niobového vzorku za velmi nízkých teplot

Předmětem výzkumu bylo ověření vyzařování tepla povrchem niobového disku. Po přípravě vzorku byly v nízkoteplotní měřící aparatuře testovány tepelně radiační vlastnosti dodaného materiálu. Experimenty ...

Frolec, Jiří
Ústav přístrojové techniky, 2019

SMV-2019-04: Velkoplošné nanášení nanostruktur
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2019 - Czech
Vývoj sendvičových nanostruktur na dopovaném křemíkovém substrátu. Rozměry nanostruktur a jejich periodicita je na limitu rozměrů, které umožňuje připravit elektronový litograf Raith EBPG5000+. Na dopovaný křemíkový substrát byla připravena tenká nitridová vrstva jako maska pro následné leptání. Pomocí elektronové litografie a vakuového napařování byly nejdříve připraveny zlaté soukrytovací značky nutné pro provedení vícenásobné expozice. V dalším litografickém kroku byla naexponována maska v rezistu, přes kterou se pomocí reaktivního iontového leptání proleptala nitridová maska. Přes nitridovou masku došlo k vyleptání pyramid v křemíku. V třetím litografickém kroku byla pomocí různých strategií zápisu připravena druhá maska pro napaření hliníkové vrstvy v místech dříve vyleptaných pyramid. Proces byl dokončen provedením lift-off techniky okolní plochy. The development of sandwich nanostructures on doped silicon substrate. The dimension of nanostructures and their pitch is very close to the capability of used e-beam system Raith EBPG5000+. Thin silicon nitride layer was prepared on doped silicon substrate. This layer is needed for wet etching of silicon. The golden markers needed for direct writing of multiple patterns were prepared by the way of e-beam lithography and vacuum evaporation. Mask in the resist layer was exposed for etching of the silicon nitride mask by reactive ion etching in the next step. Wet etching of silicon was carried out after the mask was prepared. Small pyramids were created by the etching process. The last lithography step was preparation of the mask over the pyramids. Thin aluminum layer in the areas where the pyramids are presented was prepared by the way of vacuum evaporation and lift-off technique. Keywords: e-beam lithography; nanostructures; wet etching; vacuum evaporation; reactive ion etching Available at various institutes of the ASCR
SMV-2019-04: Velkoplošné nanášení nanostruktur

Vývoj sendvičových nanostruktur na dopovaném křemíkovém substrátu. Rozměry nanostruktur a jejich periodicita je na limitu rozměrů, které umožňuje připravit elektronový litograf Raith EBPG5000+. Na ...

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2019

SMV-2019-05: Fázové mřížky
Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2019 - Czech
Vývoj přípravy fázových mřížek pro použití ve spektroskopii materiálů. Během vývoje se prozkoumaly možnosti návrhu a přípravy fázových mřížek, které by byly naladěné na dvě odlišné vlnové délky. Teoretické simulace ukázaly, že se mřížka (hloubka mřížky) musí naladit na hodnotu mezi dvěmi zamýšlenými vlnovými délkami, aby se maximalizovaly účinnosti v prvních řádech pro obě vlnové délky. Vzorky byly následně vyrobeny pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Development of phased gratings manufacturing for use in transient grating spectroscopy. Possible approaches for phased gratings design were studied during the development to achieve the maximum efficiency for two different wavelengths. Theoretic simulations showed that the grating has to be adjusted for the value of wavelength (the depth of the grating) between two desired values of wavelength to achieve the maximum efficiency in first diffractive orders. The samples were manufactured with use of e-beam lithography and reactive ion etching. Keywords: e-beam lithography; diffractive grating; reactive ion etching Available at various institutes of the ASCR
SMV-2019-05: Fázové mřížky

Vývoj přípravy fázových mřížek pro použití ve spektroskopii materiálů. Během vývoje se prozkoumaly možnosti návrhu a přípravy fázových mřížek, které by byly naladěné na dvě odlišné vlnové délky. ...

Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2019

STEM modes in SEM
Konvalina, Ivo; Paták, Aleš; Mikmeková, Eliška; Mika, Filip; Müllerová, Ilona
2018 - English
The segmented semiconductor STEM detector in the Magellan 400 FEG SEM microscope\n(https://www.fei.com/) is used to detect transmitted electrons (TEs) and allows observing\nsamples in four imaging modes. Two modes of objective lens, namely high resolution (HR)\nand ultra-high resolution (UHR), differ by their resolution and by the presence or absence of\na magnetic field around the sample. If the beam deceleration (BD) mode is chosen, then\nan electrostatic field around the sample is added and two further microscope modes HR + BD\nand UHR + BD, become available. Trajectories of TEs are studied with regard to their angular\nand energy distribution in each mode in this work.\n Keywords: SEM; STEM Available at various institutes of the ASCR
STEM modes in SEM

The segmented semiconductor STEM detector in the Magellan 400 FEG SEM microscope\n(https://www.fei.com/) is used to detect transmitted electrons (TEs) and allows observing\nsamples in four imaging ...

Konvalina, Ivo; Paták, Aleš; Mikmeková, Eliška; Mika, Filip; Müllerová, Ilona
Ústav přístrojové techniky, 2018

Creation of electron vortex beams using the holographic reconstruction method in a scanning electron microscope
Řiháček, Tomáš; Horák, M.; Schachinger, T.; Matějka, Milan; Mika, Filip; Müllerová, Ilona
2018 - English
Electron vortex beams (EVB) were theoretically predicted in 2007 and first experimentally\ncreated in 2010. Although they attracted attention of many researchers, their\ninvestigation takes place almost solely in connection with transmission electron microscopes (TEM). On the other hand, although scanning electron microscopes (SEM) may provide some advantages for EVB applications, only little attention has been dedicated to them. Therefore, the aim of this work is to create electron vortices in SEM at energies of several keV. Keywords: electron vortex beams; scanning electron microscopy; electron diffraction Available at various institutes of the ASCR
Creation of electron vortex beams using the holographic reconstruction method in a scanning electron microscope

Electron vortex beams (EVB) were theoretically predicted in 2007 and first experimentally\ncreated in 2010. Although they attracted attention of many researchers, their\ninvestigation takes place ...

Řiháček, Tomáš; Horák, M.; Schachinger, T.; Matějka, Milan; Mika, Filip; Müllerová, Ilona
Ústav přístrojové techniky, 2018

SMV-2018-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2018 - Czech
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury. Research and development in the field of physical realization of graphic and optical structures based on the principle of diffractive optics by means of electron beam lithography in a recording material supported by a silicon or glass board. The research covers the analysis of the graphical or optical motive, research and application of relief structures implementing the required graphic and optical properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of relief structures, preparation and analysis of technology of implementation of relief structures with regard to the limits of current scientific instruments, verification of theoretical considerations by means of relief structure sample exposure. Keywords: diffractive optical structures; relief structure; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2018-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky

Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou ...

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2018

Měření laserového svařovacího procesu vysokorychlostní kamerou a fotodiodou
Horník, Petr; Mrňa, L.; Šebestová, Hana
2018 - Czech
Systém pro monitorování laserového svařovacího procesu lze realizovat opticky. Řešení pomocí fotodiod snímajících svařované místo má výhodu v jednoduchosti a nízkých nákladech, potýká se však s mnoha výzvami. Při snímání více fotodiodami byla zjištěna závislost měřené intenzity na poloze fotodiody. Následně byly naměřené hodnoty porovnány se snímky vysokorychlostní kamery. S využití korelačního koeficientu byla na snímcích určena oblast poskytující stejnou informaci jako měření fotodiodou. Laser welding monitoring system can be realized optically. The solution with photodiode sensing welded area has advantage of simplicity and low cost but faces many challenges. Multi-photodiode measurement show dependency of the measured intensity on the photodiode position. Subsequently, the measured values were compared with high-speed camera images. Using the correlation coefficient, the area providing the same information as photodiode measurement was determined in the images. Keywords: laser welding; process monitoring Available at various institutes of the ASCR
Měření laserového svařovacího procesu vysokorychlostní kamerou a fotodiodou

Systém pro monitorování laserového svařovacího procesu lze realizovat opticky. Řešení pomocí fotodiod snímajících svařované místo má výhodu v jednoduchosti a nízkých nákladech, potýká se však s mnoha ...

Horník, Petr; Mrňa, L.; Šebestová, Hana
Ústav přístrojové techniky, 2018

SMV-2018-20: Elektronově optické vlatnosti multi-svazkového zdroje elektronů
Radlička, Tomáš
2018 - Czech
Elektronový svazek je generovaný v jednom auto-emisním elektronovém zdroji, a na jednotlivé se svazečky se rozdělí na speciální apertuře, na které je 14x14 malých kruhových aperturek. Ty zároveň fungují jako čočky pro každý svazeček. Byla studována možnost korekce sklenutí pole a astigmatizmu a vzájemný vliv jednotlivých aperturek pomoci 3D výpočtu pole. The electron beam is generated in the field-emission electron source and it is separated to number of indiviual beamlets in the aperture array containg 14x14 small apertures – aperture lenses. We studied possible correction of field curvature and astigmatism as well as influence of surrounding apertures on the properties of the electron beam. Keywords: electron source; multi-beam SEM Available at various institutes of the ASCR
SMV-2018-20: Elektronově optické vlatnosti multi-svazkového zdroje elektronů

Elektronový svazek je generovaný v jednom auto-emisním elektronovém zdroji, a na jednotlivé se svazečky se rozdělí na speciální apertuře, na které je 14x14 malých kruhových aperturek. Ty zároveň ...

Radlička, Tomáš
Ústav přístrojové techniky, 2018

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases