Number of found documents: 1245
Published from to

SMV-2020-22: Morfologická analýza miniaturních maleb pomocí světelného mikroskopu a EREM
Neděla, Vilém
2020 - Czech
Miniaturní malby byly analyzovány v experimentálně stanovených a optimalizovaných podmínkách environmentálního rastrovacího elektronového mikroskopu a pomocí světelného mikroskopu. Optimální tlak plynu a relativní vlhkost byla nastavena pro minimalizaci poškození vzorku. Byly použity speciální detektory pro snímání obrazu při nízkých dávkách. Miniature painting were analysed in experimentally reached and optimised high pressure conditions of environmental scanning electron microscope and using light microscopy. Optimal gas pressure and humidity were set to minimise sample damage. Special detectors were used for low dose imaging of surface morphology. Keywords: Art works; ESEM; light microscopy; morphology Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-22: Morfologická analýza miniaturních maleb pomocí světelného mikroskopu a EREM

Miniaturní malby byly analyzovány v experimentálně stanovených a optimalizovaných podmínkách environmentálního rastrovacího elektronového mikroskopu a pomocí světelného mikroskopu. Optimální tlak ...

Neděla, Vilém
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-15: Vývoj nerozebíratelných spojů kovových materiálů pro vakuovou techniku
Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
2020 - Czech
Předmětem řešeného projektu byl vývoj nerozebíratelných spojů kovových materiálů s využitím technologie svařování elektronovým svazkem a vakuového pájení. Výsledkem projektu byly konkrétní technologické postupy pro konkrétní sestavy. The subject of the project was further development of permanent joints of metal materials by electron beam welding and vacuum brazing. The outcome of the project were specific technological procedures for given assemblies. Keywords: electron beam welding; vacuum brazing Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-15: Vývoj nerozebíratelných spojů kovových materiálů pro vakuovou techniku

Předmětem řešeného projektu byl vývoj nerozebíratelných spojů kovových materiálů s využitím technologie svařování elektronovým svazkem a vakuového pájení. Výsledkem projektu byly konkrétní ...

Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-36: Siemens_lasersvar_díly_parní_turbíny
Mrňa, Libor
2020 - Czech
Testování možností využití technologie laserového svařování pro homogení a heterogení spoje dílců parních turbín z různých typů austenitických, duplexních a martenzitickcýh korozivzdorných ocelí. Testing the possibilities of using laser welding technology for homogeneous and heterogeneous joints of steam turbine components from various types of austenitic, duplex and martensitic stainless steels. Keywords: laser welding; weldability of dissimilar steel Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-36: Siemens_lasersvar_díly_parní_turbíny

Testování možností využití technologie laserového svařování pro homogení a heterogení spoje dílců parních turbín z různých typů austenitických, duplexních a martenzitickcýh korozivzdorných ...

Mrňa, Libor
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-42: Výzkum a vývoj asférické čočky
Šarbort, Martin; Holá, Miroslava; Lazar, Josef; Vašátko, Albert
2020 - Czech
Cílem projektu smluvního výzkumu byl návrh optického systému, který generuje laserový svazek specifického tvaru. Optický systém byl založen na speciálně navržené asférické čočce. Parametry čočky byly vypočteny pomocí optimalizačního algoritmu. Vlastnosti generovaného svazku byly ověřeny ve specializovaném softwaru pro návrh optických soustav. The aim of the contract research project was to design an optical system that generates a laser beam of a specific shape. The optical system was based on a specially designed aspheric lens. The lens parameters were calculated using an optimization algorithm. The properties of the generated beam were verified in specialized software for the design of optical systems. Keywords: optical design; aspheric lens; laser beam shaping Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-42: Výzkum a vývoj asférické čočky

Cílem projektu smluvního výzkumu byl návrh optického systému, který generuje laserový svazek specifického tvaru. Optický systém byl založen na speciálně navržené asférické čočce. Parametry čočky byly ...

Šarbort, Martin; Holá, Miroslava; Lazar, Josef; Vašátko, Albert
Ústav přístrojové techniky, 2020

Dynamic impact wear and impact resistance of W-B-C coatings
Daniel, Josef; Grossman, Jan; Buršíková, V.; Zábranský, L.; Souček, P.; Mirzaei, S.; Vašina, P.
2020 - English
Coated components used in industry are often exposed to repetitive\ndynamic impact load. The dynamic impact test is a suitable method for the\nstudy of thin protective coatings under such conditions. Aim of this paper\nis to describe the method of dynamic impact testing and the novel concepts\nof evaluation of the impact test results, such as the impact resistance and\nthe impact deformation rate. All of the presented results were obtained by\ntesting two W-B-C coatings with different C/W ratio. Different impact test\nresults are discussed with respect to the coatings microstructure, the\nchemical and phase composition, and the mechanical properties. It is shown\nthat coating adhesion to the HSS substrate played a crucial role in the\ncoatings.\n Keywords: boron carbide W-B-C; fracture resistance; impact wear; W-B-C Available at various institutes of the ASCR
Dynamic impact wear and impact resistance of W-B-C coatings

Coated components used in industry are often exposed to repetitive\ndynamic impact load. The dynamic impact test is a suitable method for the\nstudy of thin protective coatings under such conditions. ...

Daniel, Josef; Grossman, Jan; Buršíková, V.; Zábranský, L.; Souček, P.; Mirzaei, S.; Vašina, P.
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Král, Stanislav; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav; Knápek, Alexandr
2020 - Czech
Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky opracování křemíku. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy. Development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy. Micro-lithographic techniques for the recording of patterns in the silicon were used. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed. Keywords: relief structure: e-beam lithography; relief structure: silicon etching; silicon etching; microlithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-24: Vývoj testovacích preparátů pro REM

Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky ...

Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Král, Stanislav; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav; Knápek, Alexandr
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-48: Návrh a depozice interferenčních pásmových filtrů
Oulehla, Jindřich; Pokorný, Pavel
2020 - Czech
Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů pomocí technologie vakuového napařování elektronovým svazkem. Depozice je provedena na substráty dodané zákazníkem. Design, development and deposition of interference filters using vacuum electron beam evaporation. The filters are deposited on substrates supplied by the customer. Keywords: thin film optics; interference filters; e-beam evaporation Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-48: Návrh a depozice interferenčních pásmových filtrů

Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů pomocí technologie vakuového napařování elektronovým svazkem. Depozice je provedena na substráty dodané zákazníkem....

Oulehla, Jindřich; Pokorný, Pavel
Ústav přístrojové techniky, 2020

Deep learning for magnetic resonance spectroscopy quantification: A time frequency analysis approach
Shamaei, Amirmohammad
2020 - English
Magnetic resonance spectroscopy (MRS) is a technique capable of detecting chemical compounds from localized volumes in living tissues. Quantification of MRS signals is required for obtaining the metabolite concentrations of the tissue under investigation. However, reliable quantification of MRS is difficult. Recently deep learning (DL) has been used for metabolite quantification of MRS signals in the frequency domain. In another study, it was shown that DL in combination with time-frequency analysis could be used for artifact detection in MRS. In this study, we verify the hypothesis that DL in combination with time-frequency analysis can also be used for metabolite quantification and yields results more robust than DL trained with MR signals in the frequency domain. We used the complex matrix of absolute wavelet coefficients (WC) for the time-frequency representation of the signal, and convolutional neural network (CNN) implementation for DL. The comparison with DL used for quantification of data in the frequency domain is presented. Keywords: magnetic resonance spectroscop; quantification; deep learning; machine learning Fulltext is available at external website.
Deep learning for magnetic resonance spectroscopy quantification: A time frequency analysis approach

Magnetic resonance spectroscopy (MRS) is a technique capable of detecting chemical compounds from localized volumes in living tissues. Quantification of MRS signals is required for obtaining the ...

Shamaei, Amirmohammad
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-18: Výzkum a vývoj elektronových trysek pro svařování
Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
2020 - Czech
Předmětem projektu bylo pokračování výzkumu a vývoje trysek pro elektronové svařování a příslušenství. Probíhající fáze byla zaměřena na úpravy dílčích součástí trysek, a to především na vysokonapěťový kabel a izolátor. Pro otestování modifikací byly vyrobeny ověřovací vzorky. The subject of the project was further research and development of the electron gun for electron beam welding. The improvements were aimed to specific components from which are the electron guns assembled especially the high-voltage cable and the insulator. A series of samples was produced for the product evaluation. Keywords: electron gun; electron beam welding machine Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-18: Výzkum a vývoj elektronových trysek pro svařování

Předmětem projektu bylo pokračování výzkumu a vývoje trysek pro elektronové svařování a příslušenství. Probíhající fáze byla zaměřena na úpravy dílčích součástí trysek, a to především na ...

Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav; Pokorná, Zuzana
2020 - Czech
Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky opracování křemíku. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy. Development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy. Micro-lithographic techniques for the recording of patterns in the silicon were used. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed. Keywords: relief structure: e-beam lithography; silicon etching; microlithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM

Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky ...

Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav; Pokorná, Zuzana
Ústav přístrojové techniky, 2020

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases