Number of found documents: 994
Published from to

Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes
Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Řiháček, Tomáš; Kolařík, Vladimír; Chlumská, Jana; Urbánek, Michal
2017 - English
Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The principle of silicon nitride membranes preparation is based on the wet anisotropic etching of the bottom side of the silicon wafer with crystallographic orientation (100). While the basic procedure for the preparation of such membranes is well known, the nano patterning of thin membranes presents quite important challenges. This is partially due to the mechanical stress which is typically presented within such membranes. The resolution requirements of the\nmembrane patterning have gradually increased. Advanced lithographic techniques and etching procedures had to be developed. This paper summarizes theoretical aspects, technological issues and achieved results. The application potential of silicon nitride membranes as a base for multifunctional micro system (MMS) is also\ndiscussed. Keywords: e-beam writer; silicon nitride membranes; nano patterning; anisotropic etching Available at various institutes of the ASCR
Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes

Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The ...

Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Řiháček, Tomáš; Kolařík, Vladimír; Chlumská, Jana; Urbánek, Michal
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-03: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2017 - Czech
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární mikrostruktury realizující požadované optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální a technologické realizace mikrostruktur s ohledem na limity vědeckých přístrojů, kterými disponujeme ve své laboratoři, přípravu datových vstupů pro expozici na elektronovém litografu, vlastní realizaci vzorků, vyhodnocení těchto vzorků a zpracování technické dokumentace. Development in the field of planar microstructures for optical applications, physical realization of structures by means of electron beam lithography. The project covers the processing and analysis of the graphical motive, research and application of planar microstructures performing required optical properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of microstructures, regard to the limits of current scientific instruments in our laboratory, data preparation for e-beam lithography exposure, samples exposure, verification of properties of samples and technical documentation preparation. Keywords: planar; microstructures; optics; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-03: Planární mikrostruktury pro optické aplikace

Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární ...

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-05: Vývoj matrice pro NIL
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2017 - Czech
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou. Research and development in the field of physical realization of transparent and opaque optical structures by means of electron beam lithography in a recording material supported by a glass substrate. Keywords: NIL; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-05: Vývoj matrice pro NIL

Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou....

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

Effect of gold coating on emissivity and absorptivity of Ti-6Al-4V alloy
Frolec, Jiří; Králík, Tomáš; Musilová, Věra; Urban, Pavel
2017 - English
The article provides experimental analysis of total hemispherical emissivity and absorptivity of Ti-6Al-4V alloy before and after deposition of 1-2 .pí.m gold layer. We measured their dependences on the temperature of thermal radiation (varying from 20 K to 320 K) and confronted these results with mechanically polished copper, i.e. with material known for extremely low emissivity and absorptivity. Galvanic deposition of pure gold resulted in significant lowering of original emissivity of Ti-6Al-4V bare surfaces from 15.8 percent to 3.4 percent at 300 K and from 4.1 percent to 1.1 percent at 20 K. Our findings about thermal-radiative properties have practical relevance for an improvement of a low temperature part of an ultra-high vacuum scanning probe microscope\n(UHV-SPM) designed by our group and could also be useful for other applications and low temperature systems. Keywords: cryogenics; gold films; heat transfer; thermal radiation Available at various institutes of the ASCR
Effect of gold coating on emissivity and absorptivity of Ti-6Al-4V alloy

The article provides experimental analysis of total hemispherical emissivity and absorptivity of Ti-6Al-4V alloy before and after deposition of 1-2 .pí.m gold layer. We measured their dependences on ...

Frolec, Jiří; Králík, Tomáš; Musilová, Věra; Urban, Pavel
Ústav přístrojové techniky, 2017

Role of the superconductivity in radiative heat transfer
Králík, Tomáš; Musilová, Věra; Srnka, Aleš; Fořt, Tomáš; Frolec, Jiří
2017 - English
The absorption and emission of thermal radiation by metals is related to their electrical properties that are influenced by impurities, defects and temperature. We show by some examples of measurements on common metals how different can be the thermal radiative properties. When the heat is transferred across a microscopic vacuum gap in the near field regime, it is possible to achieve a step-like change of the heat\ntransfer based on a superconducting transition. An interesting feature of this effect is the nonlinear thermal conductivity effecting a change of the sign of the differential thermal conductivity across the vacuum gap. Keywords: thermal radiation; near field; superconductivity Available at various institutes of the ASCR
Role of the superconductivity in radiative heat transfer

The absorption and emission of thermal radiation by metals is related to their electrical properties that are influenced by impurities, defects and temperature. We show by some examples of ...

Králík, Tomáš; Musilová, Věra; Srnka, Aleš; Fořt, Tomáš; Frolec, Jiří
Ústav přístrojové techniky, 2017

Vliv aktuní dávky a chronického podání olanzapinu na funkční změny mozku u potkana
Dražanová, Eva; Rudá-Kučerová, J.; Krátká, Lucie; Horská, K.; Kotolová, H.; Štark, T.; Babinská, Z.; Micale, V.; Starčuk jr., Zenon
2017 - Czech
Olanzapin patří do skupiny atypických antipsychotik a běžně se používá při terapii schizofrenie. Zaměřili jsme se na změny perfuze mozkové tkáně u zdravých a MAM upravených zvířat. Detekovali jsme významně nižší prokrvení mozkové kůry při akutních a chronických olanzapinem léčených zvířat. Olanzapine belongs to the first choice drug in treatment of schizophrenia. We focused on blood perfusion changes inducted by acute and chronic application of olanzapine in healthy animals and MAM altered animals. We detectet significant lower perfusion of cerebral cortex in acute and chronic olanzapine treated animals. We susspect that it could be due to altered neurotransmiter regulation caused by olanzapine. Keywords: olanzapine; ASL; MAM Available at various institutes of the ASCR
Vliv aktuní dávky a chronického podání olanzapinu na funkční změny mozku u potkana

Olanzapin patří do skupiny atypických antipsychotik a běžně se používá při terapii schizofrenie. Zaměřili jsme se na změny perfuze mozkové tkáně u zdravých a MAM upravených zvířat. Detekovali jsme ...

Dražanová, Eva; Rudá-Kučerová, J.; Krátká, Lucie; Horská, K.; Kotolová, H.; Štark, T.; Babinská, Z.; Micale, V.; Starčuk jr., Zenon
Ústav přístrojové techniky, 2017

Parameter Optimization of Multi-Level Diffraction Gratings
Matějka, Milan; Kolařík, Vladimír; Horáček, Miroslav; Král, Stanislav
2017 - English
Originally, the e-beam lithography (EBL) is a technique for creating high-resolution black and white masks for the optical lithography. Multi-level relief structures can be also prepared using EBL patterning. Their preparation is based on the image patterning with a gradient of exposure doses. Large-area multi-level structures can be effectively prepared using the electron beam pattern generator with a variable shaped beam. We present several writing strategies. Basically, the main writing strategy uses one stamp (i.e. one elementary exposure of the shaped electron beam) per one elementary area with the same exposure dose. This simple approach is fast and flexible, however it does not guarantee optimal results. The main problem is an imperfection of the stamps (size, shape, and homogeneity). Advanced algorithms are based on multiple\nexposure of the same elementary area, the total local exposure dose is a sum of several different elementary exposures (stamps). Using these algorithms, a smoother surface of the structure can be achieved. On the other hand, the writing speed is considerably decreased. Tradeoff between the achieved parameters and the writing speed is discussed for selected set of writing strategy algorithms. Keywords: e-beam pattern generator; variable shaped beam; grayscale lithography; multi-level grating Available at various institutes of the ASCR
Parameter Optimization of Multi-Level Diffraction Gratings

Originally, the e-beam lithography (EBL) is a technique for creating high-resolution black and white masks for the optical lithography. Multi-level relief structures can be also prepared using EBL ...

Matějka, Milan; Kolařík, Vladimír; Horáček, Miroslav; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-04: Vývoj technologie elektronové litografie
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2017 - Czech
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury. Research and development in the field of physical realization of graphic and optical structures based on the principle of diffractive optics by means of electron beam lithography in a recording material supported by a silicon or glass board. The research covers the analysis of the graphical or optical motive, research and application of relief structures implementing the required graphic and optical properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of relief structures, preparation and analysis of technology of implementation of relief structures with regard to the limits of current scientific instruments, verification of theoretical considerations by means of relief structure sample exposure. Keywords: diffractive optical structures; relief structure; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-04: Vývoj technologie elektronové litografie

Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou ...

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

Sborník příspěvků multioborové konference LASER57
Růžička, Bohdan
2017 - Czech
Keywords: laser; laser technology; optics; optical fiber Available at various institutes of the ASCR
Sborník příspěvků multioborové konference LASER57

Růžička, Bohdan
Ústav přístrojové techniky, 2017

Experimentální fluorescenční zařízení pro dielektroforetické třídění kapének v mikrofluidních čipech
Ježek, Jan; Pilát, Zdeněk; Šmatlo, Filip; Zemánek, Pavel
2017 - Czech
V současné době mnoho chemických a biologických oborů využívá pro své pozorování různé formy spektroskopie. Jednou z nejrozšířenějších metod je fluorescenční spektroskopie. Zároveň se v posledních sedmi letech začaly bouřlivě rozvíjet mikrofluidní techniky, které využívají mikrofluidních kanálků, kterými protéká nosná kapalina, která unáší kapénky o průměru od jednotek po desítky až stovky mikrometrů. Tyto kapénky, nemísitelné s nosnou kapalinou, slouží jako kapalné mikrokontejnery, obsahující analyzovaný vzorek a nezbytné reagencie. Pomocí speciálních mikrofluidních technik lze, např. fúzovat kapénky s různým obsahem (řízené spouštění chemických reakcí), vysokou rychlostí měnit koncentrace reaktantů v kapénce (koncentrační gradienty), třídit kapénky podle obsahu (vytváření nových kmenů buněk), apod. Keywords: fiber optics; laser systems; microfluidic chips; microcapades; spectroscopy; dielectrophoretic sorting Available at various institutes of the ASCR
Experimentální fluorescenční zařízení pro dielektroforetické třídění kapének v mikrofluidních čipech

V současné době mnoho chemických a biologických oborů využívá pro své pozorování různé formy spektroskopie. Jednou z nejrozšířenějších metod je fluorescenční spektroskopie. Zároveň se v posledních ...

Ježek, Jan; Pilát, Zdeněk; Šmatlo, Filip; Zemánek, Pavel
Ústav přístrojové techniky, 2017

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases