Studie využití pikosekundového mikroobrábění pro výrobu reflexních DOE elementů pro výkonové CW lasery. Další aktivity
Mrňa, Libor; Novotný, Jan; Kolařík, Vladimír
2021 - Czech
Reflexivní optické prvky jsou výhodné z pohledu snadného chlazení, kdy i méně účinný element je možné snadno provozovat bez jeho poškození pomocí jednoduchého systému chlazení. Při interakci materiálu s ultrakrátkými pulzy dochází z velké většiny k netepelnému působení a lze tak velmi definovaně odebírat materiál bez ovlivnění jeho okolí. Díky přímé ablací ultrakrátkými laserovými pulzy je umožněna rychlá a pružná výroba difrakčních optických elementů (DOE). Ultrakrátkými pulzy je také možné obrábět klasickými lasery těžko obrobitelné materiály a snadno vytvářet prostorové struktury v rozměrech řádu desítek mikrometrů. Reflective optical elements are advantageous in terms of ease of cooling, where even a less efficient element can be easily operated without damage by a simple cooling system. When material interacts with the ultrashort pulses, the interaction is largely non-thermal and the material can be removed in a very defined manner without affecting the surrounding area. Direct ablation with ultrashort laser pulses enables fast and flexible fabrication of diffractive optical elements (DOEs). Ultrashort pulses can also be used to machine difficult-to-machine materials with conventional lasers and easily create spatial structures on the order of tens of micrometers.
Keywords:
laser; DOE; ultrafast laser; micromachining
Available at various institutes of the ASCR
Studie využití pikosekundového mikroobrábění pro výrobu reflexních DOE elementů pro výkonové CW lasery. Další aktivity
Reflexivní optické prvky jsou výhodné z pohledu snadného chlazení, kdy i méně účinný element je možné snadno provozovat bez jeho poškození pomocí jednoduchého systému chlazení. Při interakci ...
Optické vlastnosti antireflexních vrstev ve spektroskopii s absorpčními kyvetami
Oulehla, Jindřich; Hrabina, Jan; Holá, Miroslava; Pokorný, Pavel; Lazar, Josef
2021 - Czech
Jedním z klíčových optických prvků používaných pro stabilizaci laserů jsou absorpční kyvety plněné pracovním plynem. Vstupní a výstupní okénka těchto kyvet jsou opatřena antireflexními vrstvami pro minimalizaci optických ztrát odrazem. V průběhu výrobního procesu jsou tyto vrstvy vystaveny vysokým teplotám a v provozu jsou pak dlouhodobě v kontaktu s pracovním plynem. V některých speciálních aplikacích mohou být vystaveny i dalším vnějším vlivům, jako je např. kosmické záření Příspěvek se zabývá problematikou odolnosti těchto vrstev vůči nim. One of the key optical components used in laser stabilisation is an absorption cell filled with a gas medium. The optical windows of these cells are antireflection coated to minimise optical losses. During the production process, these coatings are subject to high temperatures and are in direct contact with the gas medium. In some special applications, there might be other factors, such as cosmic radiation, to consider. This contribution deals with the coatings’ resistance to these effects.
Keywords:
optical coatings; absorption cells; optical losses; coating deposition
Available at various institutes of the ASCR
Optické vlastnosti antireflexních vrstev ve spektroskopii s absorpčními kyvetami
Jedním z klíčových optických prvků používaných pro stabilizaci laserů jsou absorpční kyvety plněné pracovním plynem. Vstupní a výstupní okénka těchto kyvet jsou opatřena antireflexními vrstvami pro ...
Vysoce koherentní laser pro distribuci stabilní optické frekvence přes fotonické sítě
Pravdová, Lenka; Čížek, Martin; Hrabina, Jan; Jelínek, Michal; Řeřucha, Šimon; Mikel, Břetislav; Lazar, Josef; Havliš, O.; Altmannová, L.; Smotlacha, V.; Vojtěch, J.; Velc, R.; Číp, Ondřej
2021 - Czech
Příspěvek představuje víceúčelový laser s velmi úzkou spektrální čarou, pracující na vlnové délce 1540 nm a určený pro spektroskopii chlazených iontů a pro distribuci přesných optických frekvencí po optvláknových trasách. Optická frekvence komerčního jednomodového laseru (NKT Photonics Koheras Basik) je s využitím vysokojakostního optického rezonátoru jako optické reference a akusto-optického modulátoru jako akčního regulačního prvku spektrálně zúžena na úroveň jednotek Hz. Optický rezonátor je vyroben z materiálu s nízkým koeficientem délkové teplotní roztažnosti a je umístěn ve víceplášťové vakuové komoře zajišťující stabilní prostředí pro provoz. Stabilizace optické frekvence využívá modulační a detekční techniku PDH (Pound-Drewer-Hall). The paper presents a multipurpose laser with a very narrow spectral line, operating at a wavelength of 1540 nm and designed for cooled ions spectroscopy and the dissemination of precise optical frequencies over optical fibre links. The optical frequency of a commercial single-mode laser (NKT Photonics Koheras Basik) is spectrally narrowed to the level of several Hz using a high-quality optical resonator as an optical reference and an acousto-optic modulator as an active control element. The optical resonator is made of a low length thermal expansion coefficient material and is placed in a multi-shell vacuum chamber providing a stable operating environment. Optical frequency stabilisation uses PDH (Pound-Drewer-Hall) modulation and detection technique.
Keywords:
time and frequency; laser standard; optical cavity; optical resonator
Available at various institutes of the ASCR
Vysoce koherentní laser pro distribuci stabilní optické frekvence přes fotonické sítě
Příspěvek představuje víceúčelový laser s velmi úzkou spektrální čarou, pracující na vlnové délce 1540 nm a určený pro spektroskopii chlazených iontů a pro distribuci přesných optických frekvencí po ...
Vláknové mřížky pro senzorické účely a návrh nelineárních struktur
Helán, R.; Šifta, R.; Urban, F.; Urban jr., F.; Mikel, Břetislav; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
2021 - Czech
Článek je zaměřen na výzkum a vývoj optických nelineárních FBG struktur pomocí tzv. nelineárního chirpu, díky kterému dochází k vytvoření požadovaného typu filtru. Takto vytvořené nelineární struktury mohou být použity pro tvarování spektra zdroje optického záření určeného pro vyhodnocování senzorů založených na FBG. This paper focuses on the research and development of optical nonlinear FBG structures using the so-called nonlinear chirp, which produces the desired type of filter. Such created nonlinear structures can shape the spectrum of an optical radiation source intended to evaluate FBG-based sensors.
Keywords:
FBG; phase mask; UV laser; nonlinear chirp
Available at various institutes of the ASCR
Vláknové mřížky pro senzorické účely a návrh nelineárních struktur
Článek je zaměřen na výzkum a vývoj optických nelineárních FBG struktur pomocí tzv. nelineárního chirpu, díky kterému dochází k vytvoření požadovaného typu filtru. Takto vytvořené nelineární struktury ...
Low-temperature emissivity of thin Al2O3 layers deposited on copper substrate
Frolec, Jiří; Králík, Tomáš; Nyman, L.; Pudas, M.; Kallio, E.
2021 - English
Copper is commonly used in cryogenic systems due to its high thermal and electrical conductivity along with excellent solderability. Very low emissivity values of copper surface also reduce in cryogenic systems heat load transferred by thermal radiation. These values may be, however, enhanced by a prospective coating, deposited usually in order to prevent chemical changes on highly reactive copper surface. This paper focuses on protective layers of Al2O3 with thicknesses up to 28 nm, deposited on polished copper. We measured total hemispherical emissivity at cryogenic temperatures before and after the coating process. Contribution of Al2O3 layer to original copper emissivity increased with rising temperature of the layer and with the layer thickness. However, emissivity of the coated copper stayed below 2%, allowing usage of the coated copper in systems where low heat load by thermal radiation is needed. Preliminary tests with oxygen plasma shows that deposited layers can effectively protect the copper surface against oxidation and maintain the original thermal-radiative properties.
Keywords:
heat transfer; thermal radiation; cryogenics; surface finish
Available at various institutes of the ASCR
Low-temperature emissivity of thin Al2O3 layers deposited on copper substrate
Copper is commonly used in cryogenic systems due to its high thermal and electrical conductivity along with excellent solderability. Very low emissivity values of copper surface also reduce in ...
Patterning of conductive nano-layers on garnet
Chlumská, Jana; Lalinský, Ondřej; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
2021 - English
Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography.
Keywords:
Electron beam lithography; nano-patterning; yttrium aluminium garnet
Available at various institutes of the ASCR
Patterning of conductive nano-layers on garnet
Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have ...
Prostorové rozložení zpětně odraženého laserového záření při laserovém svařování
Horník, Petr; Mrňa, Libor; Šebestová, Hana; Novotný, Jan
2021 - Czech
Laserové zdroje běžně používané v průmyslu bývají vybaveny detektorem zpětně odraženého záření, které který brání vzniku potenciálně nebezpečných situací vypnutím laseru v případě příliš velkého zpětného odrazu. Laserové záření se však není nikdy celé úplně absorbováno materiálem a v určité míře se při laserovém svařování odráží vždy. Tento detektor lze použít také ke sledování svařovacího procesu. Výstupem je hodnota intenzity vracející se zpět optickým vláknem. Pro lepší pochopení toho, které části procesu nejvíce přispívají k hodnotě zpětného odrazu byla navržena optická sestava s kamerou snímající na vlnové délce procesního laseru. Laser sources commonly used in industry are usually equipped with a backscattered detector, which prevents potentially dangerous situations from turning off the laser in the event of too much backscatter. However, the laser radiation is never completely absorbed by the material and to some extent is always reflected in the laser welding. This detector can also be used to monitor the welding process. The output is the intensity value returned by the optical fiber. To better understand which parts of the process contribute most to the backscatter value, an optical assembly with a camera scanning the wavelength of the process laser was designed.
Keywords:
laser welding; process monitoring
Available at various institutes of the ASCR
Prostorové rozložení zpětně odraženého laserového záření při laserovém svařování
Laserové zdroje běžně používané v průmyslu bývají vybaveny detektorem zpětně odraženého záření, které který brání vzniku potenciálně nebezpečných situací vypnutím laseru v případě příliš velkého ...
A sampler of diffraction and refraction optically variable image elements
Horáček, Miroslav; Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Pirunčík, J.; Aubrecht, I.; Kotrlý, M.; Kolařík, Vladimír
2021 - English
Diffraction and refraction optically variable image elements are basic building blocks of planar structures for advanced security of documents and valuables. A sampler formed by an array of 36 diffraction structures binary, tertiary, quaternary and blazed gratings (period range 400 nm 20,000 nm) represents a cross-section throughout technological steps mastering, galvanic replication and embossing. Electron-beam writing technology with Gaussian beam and electron energy of 100 keV, with very small forward scattering of high energy electrons and with the possibilities to create a linear grating with the minimal period of 100 nm, was used to create the master. An important advantage of high-resolution electron-beam lithography is its substantial flexibility in combining possible planar structures with significantly different parameters, such as very dense and relatively shallow structures together with deep structures (approx. 10 microns) with precise shapes (micro-lenses or Fresnel structures). For protection of documents and valuables, interesting results are induced with planar optical structures consisting of non-periodic arrangements, which are characterized by high robustness to counterfeiting and imitation. While the origination process is available for grating period down to 100 nm, the mass replication technology appears to be a bottleneck of the entire technological process. Measurement of topology and profiles of the structures by atomic forces microscope and documenting the quality of technological process of the three steps of replication of planar optically variable elements was performed for all 36 structure types of sampler.
Keywords:
diffraction; refraction; e-beam writer; embossing; galvanic replication; mastering; optically variable image element; security; valuables
Available at various institutes of the ASCR
A sampler of diffraction and refraction optically variable image elements
Diffraction and refraction optically variable image elements are basic building blocks of planar structures for advanced security of documents and valuables. A sampler formed by an array of 36 ...
Apparatus for automatic chemical etching of metallographic samples
Ambrož, Ondřej; Čermák, Jan; Mikmeková, Šárka
2021 - English
The microstructure of steels after mechanical polishing is revealed only by the application of a suitable etchant. To achieve adequate optical or electron microscope images, the specimen surface must be free of any artifacts. Chemical etching can be defined as a controlled corrosion process. The metal of the investigated material passes as cations into the etchant solution during the chemical etching reaction. Chemical etching is usually performed manually either by immersing the sample in the etchant with simultaneous stirring or by swabbing with a lint-free cloth soaked in the etchant. It is also extremely important to debug the process of removing the sample from the bath and subsequent cleaning. It is recommended to wash the sample after removal from the etchant with water (distilled or demineralized) or alcohol (ethanol, methanol, or isopropyl alcohol) and dry it properly (depending on the etchant and the etched material). The main problem with these processes is the human factor, which significantly contributes to the already limited repeatability. All operation steps must be performed by properly trained personnel in the field of occupational safety because hazardous substances are handled. A high manual dexterity is also needed. Training a new employee is a long-term process. Moreover, keeping the exact etching time can be a challenge and one second can decide success. These problems become more serious in the case of using surface sensitive analytical method, such as a low energy scanning electron microscopy, due to the high spatial resolution and extreme surface sensitivity. We have developed an apparatus for automatic etching of metallographic samples of purpose to overcome all above-mentioned difficulties. The apparatus and results of the first experiments will be presented.
Keywords:
metallography; chemical etching; automation; SEM; ultrasonic bath
Available at various institutes of the ASCR
Apparatus for automatic chemical etching of metallographic samples
The microstructure of steels after mechanical polishing is revealed only by the application of a suitable etchant. To achieve adequate optical or electron microscope images, the specimen surface must ...
Infrastruktura pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu
Havliš, O.; Vojtěch, J.; Číp, Ondřej; Čížek, Martin; Hrabina, Jan; Pravdová, Lenka
2021 - Czech
Poster popisuje infrastrukturu pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu tedy ve vyhrazené části spektra v C, L a S pásmu, kde dochází k obousměrnému přenosu na vlastním vyvíjeném systému Czech Light. The poster describes the infrastructure for transmission of accurate time and coherent frequency using multiband, i.e. in a dedicated part of the optical spectrum in C, L and S bands, where bidirectional transmission is carried out on the in-house developed Czech Light system.
Keywords:
accurate time and coherent frequency transmission; multi band; bidirectional transmission; Czech Light; CLA BiDi
Available at various institutes of the ASCR
Infrastruktura pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu
Poster popisuje infrastrukturu pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu tedy ve vyhrazené části spektra v C, L a S pásmu, kde dochází k obousměrnému přenosu na vlastním ...
NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web
Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz
Provider
Other bases