Number of found documents: 1249
Published from to

SMV-2021-04: Pokročilá EDS analýza miniaturních maleb v EREM
Neděla, Vilém; Tihlaříková, Eva
2021 - Czech
Vzorky byly analyzovány v experimentálně stanovených a optimalizovaných podmínkách environmentálního rastrovacího elektronového mikroskopu a pomocí EDS X-Ray mikro analyzátoru Bruker. Samples were analysed in experimentally reached and optimised high pressure conditions of environmental scanning electron microscope and using EDS X-Ray micro-analyser. Keywords: art works; ESEM; EDS Available at various institutes of the ASCR
SMV-2021-04: Pokročilá EDS analýza miniaturních maleb v EREM

Vzorky byly analyzovány v experimentálně stanovených a optimalizovaných podmínkách environmentálního rastrovacího elektronového mikroskopu a pomocí EDS X-Ray mikro analyzátoru Bruker....

Neděla, Vilém; Tihlaříková, Eva
Ústav přístrojové techniky, 2021

Patterning of conductive nano-layers on garnet
Chlumská, Jana; Lalinský, Ondřej; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
2021 - English
Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography. Keywords: Electron beam lithography; nano-patterning; yttrium aluminium garnet Available at various institutes of the ASCR
Patterning of conductive nano-layers on garnet

Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have ...

Chlumská, Jana; Lalinský, Ondřej; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
Ústav přístrojové techniky, 2021

SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Kolařík, Vladimír; Kopal, Jaroslav
2021 - Czech
Byla vyvinuta, realizována a charakterizována amplitudová maska dle podkladů zadavatele. K přípravě byl použit zápis motivu v zařízení s elektronovým svazkem a související technologické operace. Parametry byly ověřeny pomocí skenování povrchu sondou. An amplitude mask was developed, implemented and characterized according to the partner's documents. The notation of the motif in an electron beam device and related technological operations were used for the preparation. The parameters were verified by scanning the surface with a probe. Keywords: e-beam lithography; lithography mask Available at various institutes of the ASCR
SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav

Byla vyvinuta, realizována a charakterizována amplitudová maska dle podkladů zadavatele. K přípravě byl použit zápis motivu v zařízení s elektronovým svazkem a související technologické operace. ...

Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Kolařík, Vladimír; Kopal, Jaroslav
Ústav přístrojové techniky, 2021

SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Chlumská, Jana; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav
2021 - Czech
Výzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu a kalibraci zvětšení, pravoúhlosti a geometrického zkreslení. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice a rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy. Research and development of accurate calibration samples with relief structures. The samples are intended for parameter calibration of scanning electron microscope (SEM). Testing patterns allow to check and calibrate magnification, orthogonality and geometric distortion. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed. Keywords: relief structure; e-beam lithography; silicon etching; microlithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM

Výzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu ...

Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Chlumská, Jana; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2021

SMV-2020-47: Konstrukce a depozice interferenčního filtru – laserových brýlí
Oulehla, Jindřich; Pokorný, Pavel
2020 - Czech
Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů pomocí technologie vakuového napařování elektronovým svazkem. Depozice je provedena na substráty dodané zákazníkem. Design, development and deposition of interference filters using vacuum electron beam evaporation. The filters are deposited on substrates supplied by the customer. Keywords: thin film optics; interference filters; e-beam evaporation Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-47: Konstrukce a depozice interferenčního filtru – laserových brýlí

Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů pomocí technologie vakuového napařování elektronovým svazkem. Depozice je provedena na substráty dodané zákazníkem....

Oulehla, Jindřich; Pokorný, Pavel
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-51: Analýza mikrostruktury a chemického složení syntetických diamantových prášků
Mika, Filip
2020 - Czech
Byla vypracována metodika preparace a zobrazení prášků ve vysokorozlišovacím SEM bez nutnosti pokovení (tj. bez ztráty informace o reliéfu a jejich skutečné velikosti) a dále metodika pro chemickou analýzu jednotlivých zrn prášků ze zorných polí širokých až několik centimetrů. We developed the procedure for preparation and imaging of diamond powders in high resolution SEM with out any aditional coating (So we preserve the dimensions). We also developed the procedure for fast chemical analysis from a very large field of wiev (unit of centimeters). Keywords: morphology; senergy dispersive x-ray analysis; non-charging electron microscopy; energy-filtered electron microscopy; BSE Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-51: Analýza mikrostruktury a chemického složení syntetických diamantových prášků

Byla vypracována metodika preparace a zobrazení prášků ve vysokorozlišovacím SEM bez nutnosti pokovení (tj. bez ztráty informace o reliéfu a jejich skutečné velikosti) a dále metodika pro chemickou ...

Mika, Filip
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-29: Optický zdroj záření s měnitelnou koherentní délkou
Lazar, Josef; Buchta, Zdeněk; Pikálek, Tomáš
2020 - Czech
Tento laserový systém kombinující tři světelné zdroje s různými délkami koherence byl vyvinut pro pokročilé interferometrické techniky založené na interferometru Twyman-Green, který kontroluje složité optické sestavy se sekvencí odrážejících optických povrchů. Zavádí jedinečný koncept redukce nežádoucích „mrtvých proužků“ generovaných více odrazy. Do kontroly kvality ji zavádí optická výrobní společnost Meopta-optika a připravuje se výroba několika dalších. This laser system combining three light sources with various coherence lengths has been developed for advanced interferometry techniques based on Twyman-Green interferometer inspecting complex optical setups with a sequence of reflecting optical surfaces. It introduces a unique concept of reduction of unwanted “dead fringes” generated by multiple reflections. It is introduced into quality control by an optical manufacturing company Meopta-optika and production of a few more is being prepared. Keywords: metrology; interferometry; laser technology Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-29: Optický zdroj záření s měnitelnou koherentní délkou

Tento laserový systém kombinující tři světelné zdroje s různými délkami koherence byl vyvinut pro pokročilé interferometrické techniky založené na interferometru Twyman-Green, který kontroluje složité ...

Lazar, Josef; Buchta, Zdeněk; Pikálek, Tomáš
Ústav přístrojové techniky, 2020

Adhesion of PVD Coatings on Surface of Small Arm
Joska, Z.; Rak, L.; Daniel, Josef; Horníček, J.; Tříska, V.; Nguyen, C.H.
2020 - English
This work deals with the possibility of increasing the utility properties of the functional part of the weapon by deposition of PVD coating. These coatings are widely known for their high hardness and abrasion resistance without affecting the anticorrosion properties. The experimental part evaluates the created duplex coating on the piston of the assault rifle Sa vz. 58. Duplex coating adhesion, surface morphology and coating thickness was evaluated on opto digital microscope Olympus DSX 500. The impact resistance of the coating was evaluated by dynamic impact test. The durability tests of the coatings were carried out during the training of students in the military training. The results showed the application of PVD coating significantly reduced piston head wear and increased user comfort in the form of shortening time of the cleaning and maintenance process after firing. Keywords: adhesion of PVD Coatings Available at various institutes of the ASCR
Adhesion of PVD Coatings on Surface of Small Arm

This work deals with the possibility of increasing the utility properties of the functional part of the weapon by deposition of PVD coating. These coatings are widely known for their high hardness and ...

Joska, Z.; Rak, L.; Daniel, Josef; Horníček, J.; Tříska, V.; Nguyen, C.H.
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-52: Vypracování metodiky prvkového mapování řezu ocelí na rastrovacím elektronovém mikroskopu
Mika, Filip
2020 - Czech
Byla vypracována metodika chemického mapování a morfologické analýzy řezu ocelí ve vysokorozlišovacím SEM. Development of method for high resolution energy dispersive x-ray analysis of crosssection steal samples with SEM. Keywords: morphology; senergy dispersive x-ray analysis; non-charging electron microscopy; energy-filtered electron microscopy Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-52: Vypracování metodiky prvkového mapování řezu ocelí na rastrovacím elektronovém mikroskopu

Byla vypracována metodika chemického mapování a morfologické analýzy řezu ocelí ve vysokorozlišovacím SEM....

Mika, Filip
Ústav přístrojové techniky, 2020

SMV-2020-21: Prvková X-Ray analýza miniaturních maleb v EREM
Neděla, Vilém
2020 - Czech
Miniaturní malby byly analyzovány v experimentálně stanovených a optimalizovaných\npodmínkách environmentálního rastrovacího elektronového mikroskopu a pomocí EDS X-Ray mikro analyzátoru Bruker. Miniature painting were analysed in experimentally reached and optimised high\npressure conditions of environmental scanning electron microscope and using EDS X-Ray micro-analyser. Keywords: Art works; ESEM; EDS Available at various institutes of the ASCR
SMV-2020-21: Prvková X-Ray analýza miniaturních maleb v EREM

Miniaturní malby byly analyzovány v experimentálně stanovených a optimalizovaných\npodmínkách environmentálního rastrovacího elektronového mikroskopu a pomocí EDS X-Ray mikro analyzátoru ...

Neděla, Vilém
Ústav přístrojové techniky, 2020

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases