Number of found documents: 906
Published from to

Patterning of conductive nano-layers on garnet
Chlumská, Jana; Lalinský, Ondřej; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
2021 - English
Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography. Keywords: Electron beam lithography; nano-patterning; yttrium aluminium garnet Available at various institutes of the ASCR
Patterning of conductive nano-layers on garnet

Synthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have ...

Chlumská, Jana; Lalinský, Ondřej; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Kolařík, Vladimír
Ústav přístrojové techniky, 2021

Prostorové rozložení zpětně odraženého laserového záření při laserovém svařování
Horník, Petr; Mrňa, Libor; Šebestová, Hana; Novotný, Jan
2021 - Czech
Laserové zdroje běžně používané v průmyslu bývají vybaveny detektorem zpětně odraženého záření, které který brání vzniku potenciálně nebezpečných situací vypnutím laseru v případě příliš velkého zpětného odrazu. Laserové záření se však není nikdy celé úplně absorbováno materiálem a v určité míře se při laserovém svařování odráží vždy. Tento detektor lze použít také ke sledování svařovacího procesu. Výstupem je hodnota intenzity vracející se zpět optickým vláknem. Pro lepší pochopení toho, které části procesu nejvíce přispívají k hodnotě zpětného odrazu byla navržena optická sestava s kamerou snímající na vlnové délce procesního laseru. Laser sources commonly used in industry are usually equipped with a backscattered detector, which prevents potentially dangerous situations from turning off the laser in the event of too much backscatter. However, the laser radiation is never completely absorbed by the material and to some extent is always reflected in the laser welding. This detector can also be used to monitor the welding process. The output is the intensity value returned by the optical fiber. To better understand which parts of the process contribute most to the backscatter value, an optical assembly with a camera scanning the wavelength of the process laser was designed. Keywords: laser welding; process monitoring Available at various institutes of the ASCR
Prostorové rozložení zpětně odraženého laserového záření při laserovém svařování

Laserové zdroje běžně používané v průmyslu bývají vybaveny detektorem zpětně odraženého záření, které který brání vzniku potenciálně nebezpečných situací vypnutím laseru v případě příliš velkého ...

Horník, Petr; Mrňa, Libor; Šebestová, Hana; Novotný, Jan
Ústav přístrojové techniky, 2021

A sampler of diffraction and refraction optically variable image elements
Horáček, Miroslav; Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Pirunčík, J.; Aubrecht, I.; Kotrlý, M.; Kolařík, Vladimír
2021 - English
Diffraction and refraction optically variable image elements are basic building blocks of planar structures for advanced security of documents and valuables. A sampler formed by an array of 36 diffraction structures binary, tertiary, quaternary and blazed gratings (period range 400 nm 20,000 nm) represents a cross-section throughout technological steps mastering, galvanic replication and embossing. Electron-beam writing technology with Gaussian beam and electron energy of 100 keV, with very small forward scattering of high energy electrons and with the possibilities to create a linear grating with the minimal period of 100 nm, was used to create the master. An important advantage of high-resolution electron-beam lithography is its substantial flexibility in combining possible planar structures with significantly different parameters, such as very dense and relatively shallow structures together with deep structures (approx. 10 microns) with precise shapes (micro-lenses or Fresnel structures). For protection of documents and valuables, interesting results are induced with planar optical structures consisting of non-periodic arrangements, which are characterized by high robustness to counterfeiting and imitation. While the origination process is available for grating period down to 100 nm, the mass replication technology appears to be a bottleneck of the entire technological process. Measurement of topology and profiles of the structures by atomic forces microscope and documenting the quality of technological process of the three steps of replication of planar optically variable elements was performed for all 36 structure types of sampler. Keywords: diffraction; refraction; e-beam writer; embossing; galvanic replication; mastering; optically variable image element; security; valuables Available at various institutes of the ASCR
A sampler of diffraction and refraction optically variable image elements

Diffraction and refraction optically variable image elements are basic building blocks of planar structures for advanced security of documents and valuables. A sampler formed by an array of 36 ...

Horáček, Miroslav; Krátký, Stanislav; Matějka, Milan; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Pirunčík, J.; Aubrecht, I.; Kotrlý, M.; Kolařík, Vladimír
Ústav přístrojové techniky, 2021

Apparatus for automatic chemical etching of metallographic samples
Ambrož, Ondřej; Čermák, Jan; Mikmeková, Šárka
2021 - English
The microstructure of steels after mechanical polishing is revealed only by the application of a suitable etchant. To achieve adequate optical or electron microscope images, the specimen surface must be free of any artifacts. Chemical etching can be defined as a controlled corrosion process. The metal of the investigated material passes as cations into the etchant solution during the chemical etching reaction. Chemical etching is usually performed manually either by immersing the sample in the etchant with simultaneous stirring or by swabbing with a lint-free cloth soaked in the etchant. It is also extremely important to debug the process of removing the sample from the bath and subsequent cleaning. It is recommended to wash the sample after removal from the etchant with water (distilled or demineralized) or alcohol (ethanol, methanol, or isopropyl alcohol) and dry it properly (depending on the etchant and the etched material). The main problem with these processes is the human factor, which significantly contributes to the already limited repeatability. All operation steps must be performed by properly trained personnel in the field of occupational safety because hazardous substances are handled. A high manual dexterity is also needed. Training a new employee is a long-term process. Moreover, keeping the exact etching time can be a challenge and one second can decide success. These problems become more serious in the case of using surface sensitive analytical method, such as a low energy scanning electron microscopy, due to the high spatial resolution and extreme surface sensitivity. We have developed an apparatus for automatic etching of metallographic samples of purpose to overcome all above-mentioned difficulties. The apparatus and results of the first experiments will be presented. Keywords: metallography; chemical etching; automation; SEM; ultrasonic bath Available at various institutes of the ASCR
Apparatus for automatic chemical etching of metallographic samples

The microstructure of steels after mechanical polishing is revealed only by the application of a suitable etchant. To achieve adequate optical or electron microscope images, the specimen surface must ...

Ambrož, Ondřej; Čermák, Jan; Mikmeková, Šárka
Ústav přístrojové techniky, 2021

Infrastruktura pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu
Havliš, O.; Vojtěch, J.; Číp, Ondřej; Čížek, Martin; Hrabina, Jan; Pravdová, Lenka
2021 - Czech
Poster popisuje infrastrukturu pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu tedy ve vyhrazené části spektra v C, L a S pásmu, kde dochází k obousměrnému přenosu na vlastním vyvíjeném systému Czech Light. The poster describes the infrastructure for transmission of accurate time and coherent frequency using multiband, i.e. in a dedicated part of the optical spectrum in C, L and S bands, where bidirectional transmission is carried out on the in-house developed Czech Light system. Keywords: accurate time and coherent frequency transmission; multi band; bidirectional transmission; Czech Light; CLA BiDi Available at various institutes of the ASCR
Infrastruktura pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu

Poster popisuje infrastrukturu pro přenos přesného času a koherentní frekvence s využitím multi bandu tedy ve vyhrazené části spektra v C, L a S pásmu, kde dochází k obousměrnému přenosu na vlastním ...

Havliš, O.; Vojtěch, J.; Číp, Ondřej; Čížek, Martin; Hrabina, Jan; Pravdová, Lenka
Ústav přístrojové techniky, 2021

Endoskopie s multimódovým optickým vláknem
Jákl, Petr; Tučková, Tereza; Pikálek, Tomáš; Stibůrek, Miroslav; Ondráčková, Petra; Cifuentes, Angel S.; Šiler, Martin; Uhlířová, Hana; Traegaardh, Johanna; Čižmár, Tomáš
2021 - Czech
Optická mikroskopie je technikou pro zkoumání mikrosvěta pomocí světelných vln rozptýlených na částicích v prostoru vzorku. V oblasti lékařství, mikrobiologie a neurologie je jejím hlavním nedostatkem malá penetrační hloubka, kdy je velmi obtížné zobrazit struktury zanořené více než přibližně 1 mm do tkáně. Tradiční endoskopy s čočkou či tyčinkou s gradientním profilem indexu lomu (GRIN lens) zasáhnou tkáň v oblasti o průměru jednotek milimetrů, což je problematické u studia nervových tkání in vivo. Alternativou je využít k přenosu obrazu multimódových optických vláken (MMF), jejichž průměr je v nízkých stovkách mikrometrů. Tento přístup ovšem vyžaduje pokročilé tvarování vlnoplochy světla. Optical microscopy is a technique for microworld investigation using light waves scattered on particles in sample space. Its main disadvantage in the area of medicine, microbiology and neurology is its low penetration depth - it is very difficult to image structures deeper than approximately 1 mm inside tissue. Conventional endoscopes use refractive or GRIN lens with cross-section of several milimeters in diameter. Therefore, it is necessary to find less invasive probes to perform imaging in living organisms. Favourable alternative is to use multimode optical fiber probe with 100 micrometer diameter. This approach, however, requires advanced shaping of the wavefront in order to achieve diffraction limited imaging. Keywords: microscopy; endoscopy; wavefront shaping Available at various institutes of the ASCR
Endoskopie s multimódovým optickým vláknem

Optická mikroskopie je technikou pro zkoumání mikrosvěta pomocí světelných vln rozptýlených na částicích v prostoru vzorku. V oblasti lékařství, mikrobiologie a neurologie je jejím hlavním nedostatkem ...

Jákl, Petr; Tučková, Tereza; Pikálek, Tomáš; Stibůrek, Miroslav; Ondráčková, Petra; Cifuentes, Angel S.; Šiler, Martin; Uhlířová, Hana; Traegaardh, Johanna; Čižmár, Tomáš
Ústav přístrojové techniky, 2021

Optovláknové senzory pro kritické infrastruktury a jejich automatické vzdálené kalibrace
Mikel, Břetislav; Jelínek, Michal
2021 - Czech
V článku prezentujeme naše výsledky v oblasti návrhu a realizace optovláknových senzorů s vláknovými Braggovými mřížkami a jejich měřícími systémy. Tyto vyvinuté senzory a měřící systém v současnosti implementujeme pro měření kontejnmentů v jaderné elektrárně Temelín. Pro tento systém jsme také vyvinuli a přizpůsobili systém vzdálené kalibrace měřené vlnové délky přes komerční telekomunikační optické kabely. In this paper, we present our results in designing and implementing fiber optic sensors with fiber Bragg gratings and their measurement systems. We are currently implementing these developed sensors and the measurement system to measure containments at the Temelín nuclear power plant. For this systém, we have also developed and adopted an approach for remote calibration of the measured wavelength over commercial telecommunication fiber optic cables. Keywords: FBG; remote calibration; optical fiber sensors; critical infrastructures Available at various institutes of the ASCR
Optovláknové senzory pro kritické infrastruktury a jejich automatické vzdálené kalibrace

V článku prezentujeme naše výsledky v oblasti návrhu a realizace optovláknových senzorů s vláknovými Braggovými mřížkami a jejich měřícími systémy. Tyto vyvinuté senzory a měřící systém v současnosti ...

Mikel, Břetislav; Jelínek, Michal
Ústav přístrojové techniky, 2021

Bezkolizní ultrastabilní přenosy ve sdílených optických vláknech
Vojtěch, J.; Smotlacha, V.; Havliš, O.; Šlapák, M.; Altmannová, L.; Kundrát, J.; Vohnout, R.; Velc, R.; Čížek, Martin; Hrabina, Jan; Řeřucha, Šimon; Pravdová, Lenka; Lazar, Josef; Číp, Ondřej; Kuna, Alexander; Roztočil, J.
2021 - Czech
Vláknové přenosy přesného času a ultra-stabilní optické frekvence již přestaly být raritním typem přenosů a staly se součástí služeb celé řady sítí pro vědu a vzdělávání. Tyto národní infrastruktury často využívají stejná vlákna jak pro přenos standardních dat, tak i přenosy přesného času a ultra-stabilní optické frekvence. Důvodem je poměrně vysoká cena nájmu optických vláken. Nejinak je to i v ČR, infrastruktura dosáhne ještě v roce 2021 více než 3000 km přenosů, při celkové délce linek temných vláken cca 5800 km. Fibre optics transfers of precise time and ultra-stable optical frequency are gradually becoming part of portfolio of network services of research and educational networks. These national infrastructures very often share fibres with regular data transmission, because of significant share of fibre cost rental on the Total Cost of Ownership (TCO). Situation is very similar in the Czech Republic, where there was more than 3000 km of ultra-stable transmissions within Czech e-Infrastructure, which itself runs over about 5800 km of dark fibre lines. Keywords: coherent transfer; time and frequency metrology; optical fiber networks Available at various institutes of the ASCR
Bezkolizní ultrastabilní přenosy ve sdílených optických vláknech

Vláknové přenosy přesného času a ultra-stabilní optické frekvence již přestaly být raritním typem přenosů a staly se součástí služeb celé řady sítí pro vědu a vzdělávání. Tyto národní infrastruktury ...

Vojtěch, J.; Smotlacha, V.; Havliš, O.; Šlapák, M.; Altmannová, L.; Kundrát, J.; Vohnout, R.; Velc, R.; Čížek, Martin; Hrabina, Jan; Řeřucha, Šimon; Pravdová, Lenka; Lazar, Josef; Číp, Ondřej; Kuna, Alexander; Roztočil, J.
Ústav přístrojové techniky, 2021

Thermal stability of Ti/Ni multilayer thin films
Václavík, R.; Zábranský, L.; Souček, P.; Sťahel, P.; Buršík, Jiří; Fořt, Tomáš; Buršíková, V.
2021 - English
In this work, thermal stability and mechanical properties of Ti/Ni multilayer thin films were studied. The multilayer thin films were synthesised by alternately depositing Ti and Ni layers using magnetron sputtering. The thickness of constituent layers of Ti and Ni varied from 1.7 nm to 10 nm, and one coating was deposited by simultaneous sputtering of both targets. Single crystalline silicon was used as a substrate. The effects of thermal treatment on the mechanical properties were studied using nanoindentation and discussed in relation to microstructure evaluated by X-ray diffraction. Annealing was carried out under low-pressure conditions for 2 hours in the range of 100-800 degrees C. Keywords: Ti/Ni; multilayers; magnetron sputtering; nanoindentation; annealing Available at various institutes of the ASCR
Thermal stability of Ti/Ni multilayer thin films

In this work, thermal stability and mechanical properties of Ti/Ni multilayer thin films were studied. The multilayer thin films were synthesised by alternately depositing Ti and Ni layers using ...

Václavík, R.; Zábranský, L.; Souček, P.; Sťahel, P.; Buršík, Jiří; Fořt, Tomáš; Buršíková, V.
Ústav přístrojové techniky, 2021

Artifacts and errors in EBSD mapping of retained austenite in TRIP steel
Mikmeková, Šárka; Jozefovič, Patrik; Ambrož, Ondřej
2021 - English
The present work aims to demonstrate artifacts and errors in visualization of retained austenite phase in TRIP steel by an electron back-scattered diffraction (EBSD) technique. Retained austenite phases size and shape obtained by the EBSD are directly compared with a real image of these phases acquired by means of an atomic force microscopy (AFM). The effect of the step size parameter used for the EBSD analysis on the retained austenite phase fraction and morphology is discussed in detail and quantified. Surface roughness as a barrier for the imaging of fine features situated on a specimen surface is demonstrated. Keywords: EBSD; SEM; AFM; retained austenite; TRIP steel Available at various institutes of the ASCR
Artifacts and errors in EBSD mapping of retained austenite in TRIP steel

The present work aims to demonstrate artifacts and errors in visualization of retained austenite phase in TRIP steel by an electron back-scattered diffraction (EBSD) technique. Retained austenite ...

Mikmeková, Šárka; Jozefovič, Patrik; Ambrož, Ondřej
Ústav přístrojové techniky, 2021

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases